徐端頤感慨道：“林軒所長，您的能力確實令人欽佩，這項技術的突破將對euv光刻機的發展產生深遠影響。”

林軒謙遜地笑了笑：“徐教授，過獎了，這是團隊共同努力的成果。我相信，只要我們持續協作，必能推動euv光刻機技術向前邁進。”

兩人隨后就多層膜技術的具體細節進行了深入交流。

徐端頤教授不時提出自己的觀點與疑問，林軒則耐心地一一解答。

他們的對話充滿了思想碰撞與靈感交融。

時間悄然流逝，這場關于euv多層膜技術的探討也逐漸接近尾聲。

“林軒所長，您的才華與遠見令我深感敬佩。我相信，在您的引領下，303研究所一定能在euv光刻機技術領域取得更輝煌的成就。”

“我們一定能夠研制出屬于自己的euv光刻機！”

徐端頤教授十分感慨，這次聊天他收獲很多。

“是的，攜手努力！”林軒微笑著送別了徐端頤教授。

euv光刻機的研發進展至此，已接近成功——這必將是一項令世界矚目的重大科技成果。

在林軒與國家軍工系統的支持下，憑借徐端頤教授及團隊的通力協作，euv光刻機的研發進度突飛猛進。

如今，只要攻克euv多層膜技術這最后一道難關，一切便將水到渠成。

幾天之后。

林軒與李秋月乘坐專機，從綜合研究所飛赴北京，參加這場建國50周年的盛大閱兵典禮

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