正是這樣的技術難度，使得多層膜的制備成為一項艱巨挑戰，也吸引了無數科研人員投身其中。

徐端頤及其團隊在euv多層膜技術上始終未能突破，這確實是一個關鍵的技術瓶頸。

“林軒所長，我聽聞您在euv多層膜技術方面頗有見地，甚至取得了重要進展，特意前來請教。”

徐端頤教授開門見山，有些期待的看著林軒。

林軒微微一笑，神態謙遜而從容：“徐教授，您過譽了。我只是在多層膜技術領域做了一些初步探索，還談不上重大突破。”

“在euv光刻機中，多層膜的功能極為關鍵它不僅需要在較大面積上實現高于60℅且均勻的反射率，還要求全系統多層膜的反射峰值波長匹配誤差控制在極小范圍內，例如005納米以內。”

林軒想了想，開始詳細闡述他的技術思路。

“這是一個極其苛刻的要求，任何微小偏差都可能導致系統失效。”

徐端頤教授專注聆聽，不時點頭表示認同。

他深知這項技術的難度與價值，因此對林軒的每一點分析都格外關注。

“那么，您是如何突破這一技術障礙的呢？”徐端頤教授迫切地追問。

“關鍵在于實現對多層膜厚度與成分的精確調控，我們通過先進的鍍膜工藝與高精度檢測設備，實現了對每一層膜厚的納米級控制。”

“同時，我們對膜層材料成分進行了優化設計，從而提升了反射率與穩定性。”

林軒解釋道。

聽到這里，徐端頤教授不禁流露出驚嘆之色。

他未曾料到林軒能在如此短時間內取得這樣實質性的進展。