我國作為世界人口大國，在第三世界中擁有顯著影響力。其經濟實力的快速增長，已使其躋身全球最大經濟體之列。

強大的工業產能、龐大的國內市場以及持續創新的經濟發展模式，共同奠定了我國在第三世界國家中的重要地位。

作為聯合國安全理事會常任理事國，我國在國際事務中發揮著關鍵作用。

為維護世界和平與發展作出了積極貢獻。

在第三世界國家中，我國也以其堅定的立場和務實的行動，贏得了廣泛的認可與支持。

正因如此，我國堪稱第三世界中的重要引領力量。

此次我國舉辦建國50周年大閱兵，自然邀請眾多第三世界國家參與，共同見證這一歷史性時刻。

萬邦來朝，共襄盛舉。

可以說，此次大閱兵正是向世界集中展示影響力的一次重要契機。

林軒和李秋月也正為此準備前往北京觀禮。

不過在此之前，負責euv光刻機研究的徐端頤教授前來與林軒探討euv多層膜技術難題。

euv光刻機作為全球最尖端的光刻設備，其多層膜技術正是核心所在，也是最具挑戰性的環節之一。

euv多層膜技術，是一個既充滿奧秘又極具難度的領域。

在euv光刻機中，多層膜起著至關重要的作用。

它需要在較大面積上實現高于60℅且均勻的反射率，同時要求系統中所有多層膜的反射峰值波長在極窄范圍內精確匹配，這種精度要求幾乎逼近物理極限。

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