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但是，作為身為聲名遠揚的投資界大佬，對于光刻機還是知道一二的。

就因為知道，所以此刻才顯得如此震驚。

雙重曝光光刻技術是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。

兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的，但使用不同的掩模版。

相比于紫外光刻技術，整整領先了一代。

而目前，全球知名半導體企業，所用的，還只是紫外光刻。

這玩意，明明還在試驗階段，陸一鳴是怎么搞到手的？

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將雙重曝光光刻機給搞到手？

怎么聽起來這么邪乎呢？

看來，自己需要重新定義一下陸一鳴的能量了。

“陸。。。陸總，您確定，您沒有開玩笑？真的是雙重曝光光刻機？”

此時的樊東，說話都有些不利索。

這。。。

國內就不提了，國外大廠使用的，也不過是1980年左右面世的紫外光刻。

樊東在麻省理工的時候，在導師的帶領下，參與過雙重曝光光刻的研究與運用。

全新的雙重曝光光刻技術，給樊東留下了深刻的印象。

可是，就算是初步的研究，自己也受到了極大的限制。

因為自己是華夏人的原因，很多次秘密實驗，自己并沒被允許進入實驗室。

樊東當年不愿意簽人才綁定協議，最終導致與雙重曝光光刻技術失之交臂。

卻沒有想到，陸總他。。。

“怎么？我看起來像是在開玩笑？”

“不，我不是這個意思，陸總，我。。。”

“還在猶豫什么？機會就放在你的面前，而且我可以答應你，加入華夏龍騰網絡科技，你的公司只是作為華夏龍騰網絡科技的子公司，依舊可以獨立運營，我可以給你公司的主導權，并且每年提供研究經費。”